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（ l ）反应 1 的反应类型为
（ 2 ） HOCH2C≡CCH2OH 分子中，在同一个平面的原子最多有
（ 3 ）化合物 M 不可能发生的反应是
A．氧化反应 B．取代反应 C．消去反应 D．加成反应 E．还原反应
（ 4 ） N 的同分异构体中，属于酯类的有
（ 5 ） A 与 M 互为同分异构体，有如下转化关系．
填写下列空白：
①A 的结构简式为
②D 的化学式为
③写出 B 与银氨溶液反应的化学方程式：
④在 120℃时，由 A、B、E 组成的混合物 wg 与氧气充分反应，生成产物全部为气体时，消耗氧气[m （O2）]的质量范围为
（10分）以 HCHO 和 C2H2为有机原料，经过下列反应可得化合物 N(C4H8O2)。
（1）反应Ⅰ的反应类型为_______________。
（2）HOCH2C≡CCH2OH分子中，可能在同一个平面的原子最多有________个。
（3）化合物M不可能发生的反应是_____________（填序号）。
A．氧化反应 B．取代反应 C．消去反应 D．加成反应 E．还原反应
（4）N的同分异构体中，含有两个甲基且属于酯类的有___________种。
（5）A与M互为同分异构体，有如下转化关系。
填写下列空白：
①A的结构简式为_______________，C生成D的反应类型是_______________
②D的化学式为______________________
③写出B与银氨溶液反应的化学方程式：______________________________
④在120℃时，由A、B、E组成的混合物wg与氧气充分反应，生成产物全部为气体时，消耗氧气质量[m(O2)]的范围为________________________。
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（10分）以 HCHO 和 C2H2为有机原料，经过下列反应可得化合物 N(C4H8O2)。
（1）反应Ⅰ的反应类型为_______________。
（2）HOCH2C≡CCH2OH分子中，可能在同一个平面的原子最多有________个。
（3）化合物M不可能发生的反应是_____________（填序号）。
A．氧化反应 B．取代反应 C．消去反应 D．加成反应 E．还原反应
（4）N的同分异构体中，含有两个甲基且属于酯类的有___________种。
（5）A与M互为同分异构体，有如下转化关系。
填写下列空白：
①A的结构简式为_______________，C生成D的反应类型是_______________
②D的化学式为______________________
③写出B与银氨溶液反应的化学方程式：______________________________
④在120℃时，由A、B、E组成的混合物wg与氧气充分反应，生成产物全部为气体时，消耗氧气质量[m(O2)]的范围为________________________。
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（1）请写出烷烃在足量的氧气中充分燃烧的化学方程式：
| y |
| 4 |
| 点燃 |
| y |
| 2 |
| y |
| 4 |
| 点燃 |
| y |
| 2 |
（2）相同状况下，等体积的上述气态烃，消耗O2的量最多的是
（3）等质量的上述气态烃，在充分燃烧时，消耗O2的量最多的是
（4）存在同分异构体的是
（5）在120℃，1.01×105Pa条件下，某气态烃与足量的O2完全反应后，测得反应前后气体的体积没有发生改变，则该烃为
（6）10mL某气态烃，在50mL O2中充分燃烧，得到液态水，以及体积为35mL的混合气体（所有气体体积均在同温同压下测定）．该气态烃是