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| 元素 | 相关信息 |
| A | A能分别与B、C、D形成电子总数相等的分子X、Y、Z |
| B | B基态原子的价电子结构为nsnnpn |
| C | D与B在同一周期，D原子核外未成对电子数等于电子层数 |
| D | E的最高价氧化物的水化物是酸性最强的含氧酸 |
（1）E原子的核外电子排布式是______．
（2）比较顺序：第一电离能：C______D，键长：A-C______A-D（填“＞”、“＜”或“=”）．
（3）E的单质与Z反应，生成的由三种元素组成的化合物的电子式为：______；D和E的电负性的大小为：D______E（填“＞”、“＜”或“=”）．
（4）A、C、E三种元素形成的一种化合物的水溶液呈酸性，该化合物的晶体类型是______（填“分子”、“原子”或“离子”）晶体，晶体中的化学键类型有______（填“离子键”或“共价键”）．
（5）B与D一般情况下可形成两种常见气态化合物，若存在一种直线型气态化合物B2D2分子，且各原子最外层都满足8电子结构，则B2D2可能的结构简式为______．
（6）写出一个常见的Y→Z转化的化学反应方程式______△4NO+6H2O 查看习题详情和答案>>
（15分）W、M、X、Y、Z、Q是原子序数依次增大的短周期元素，X、Y是金属元素，X的焰色呈黄色。六种元素核电荷数之和为71，W、Q最外层电子数相同，Q的核电荷数是W的2倍。Z的单质和氧化物均为原子晶体。工业上一般通过电解氧化物的方法获得Y的单质。请回答下列问题：
(1)Y的离子结构示意图____________；M元素在元素周期表中的位置为______________。
(2)写出电子式并在括号内指出所含化学键的类型：W的单质______________（ ）；
X与W按原子个数比2:1形成的化合物_____________（ ）。
(3)W、M、X、Y、Z、Q原子半径由小到大的顺序为__________________(用元素符号表示)。
(4)W、M、Q形成的氢化物的稳定性_______________________(用氢化物分子式表示)；Z元素氢化物的分子空间构型___________________。
(5)X、Y、Q的最高价氧化物对应的水化物之间两两均可反应，写出反应的离子方程式：
________________________，________________________，______________；
（15分）W、M、X、Y、Z、Q是原子序数依次增大的短周期元素，X、Y是金属元素，X的焰色呈黄色。六种元素核电荷数之和为71，W、Q最外层电子数相同，Q的核电荷数是W的2倍。Z的单质和氧化物均为原子晶体。工业上一般通过电解氧化物的方法获得Y的单质。请回答下列问题：
(1)Y的离子结构示意图____________；M元素在元素周期表中的位置为______________。
(2)写出电子式并在括号内指出所含化学键的类型：W的单质______________（ ）；
X与W按原子个数比2:1形成的化合物_____________（ ）。
(3)W、M、X、Y、Z、Q原子半径由小到大的顺序为__________________(用元素符号表示)。
(4)W、M、Q形成的氢化物的稳定性_______________________(用氢化物分子式表示)；Z元素氢化物的分子空间构型___________________。
(5)X、Y、Q的最高价氧化物对应的水化物之间两两均可反应，写出反应的离子方程式：
________________________，________________________，______________；
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(1)Y的离子结构示意图____________；M元素在元素周期表中的位置为______________。
(2)写出电子式并在括号内指出所含化学键的类型：W的单质______________（ ）；
X与W按原子个数比2:1形成的化合物_____________（ ）。
(3)W、M、X、Y、Z、Q原子半径由小到大的顺序为__________________(用元素符号表示)。
(4)W、M、Q形成的氢化物的稳定性_______________________(用氢化物分子式表示)；Z元素氢化物的分子空间构型___________________。
(5)X、Y、Q的最高价氧化物对应的水化物之间两两均可反应，写出反应的离子方程式：
________________________，________________________，______________；
（1）无机非金属材料．高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”．这种材料可以按下列方法制备：
①写出步骤①的化学方程式：
②步骤②经过冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量的SiCl4（沸点57.6℃）和HCl（沸点-84.7℃），提纯SiHCl3的主要化学操作的名称是
③请写出二氧化硅与氢氟酸反应的化学方程式：
（2）磁性材料．这种材料一般含有铁元素，铁是用途最为广泛的金属，也较为活泼，所以从它的使用开始就不断实施着对它的防护．最常见的铁制品腐蚀就是电化学腐蚀，写出最为普遍的电化学腐蚀的负极反应式
（3）激光材料．我国是激光技术先进的国家，红宝石（Al2O3）是最早用于产生激光的材料，它是一种两性氧化物，请用离子方程式加以说明：
（4）纳米材料．胶体是一种物质以“纳米”颗粒的形式分散到另一种物质里形成的分散系，胶体粒子的直径大约是
（5）高分子材料．可以分成无机高分子材料和有机高分子材料．一种新型高效净水剂[AlFe（OH）nCl6-n]m就属于无机高分子材料，广泛应用于生活用水和工业污水处理，其中铁元素的化合价为