摘要:下列变化中.常温下需要加入氧化剂才能实现的是( ) A.HCl→H2 B.CO2→CO C.SO2→SO3 D.CuO→Cu

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I、下表是实验室制备气体的有关内容:
编号 实验内容 实验原理 发生装置
制氧气 H2O2→O2
制氨气 NH4Cl→NH3
制氯气 HCl→Cl2
(1)上述气体中:从制备过程看,必须选择合适的氧化剂才能实现的是
Cl2
Cl2
(填气体的化学式,下同);从反应中有无电子转移的角度看,明显不同于其他气体的是
NH3
NH3
,写出实验室制取该气体的化学方程式
Ca(OH)2+2NH4Cl
  △  
.
 
CaCl2+2NH3↑+2H2O
Ca(OH)2+2NH4Cl
  △  
.
 
CaCl2+2NH3↑+2H2O

(2)根据表中所列实验原理,从下列装置中选择合适的发生装置,将其编号填入上表的空格中.    
(3)若用上述制备O2的装置制备NH3,则选择的试剂为
浓氨水和氢氧化钠(或生石灰或碱石灰)
浓氨水和氢氧化钠(或生石灰或碱石灰)

已知:NH3?H2O的电离方程式为:NH3?H2O?NH+4+OH-,试写出NH3溶于水后,形成的NH3?H2O的合理结构

(4)制备Cl2需用8mol?L-1的盐酸100mL,现用12mol?L-1的盐酸来配制.
①需要12mol?L-1的盐酸的体积为
66.7
66.7
mL(精确到0.1mL)
②在容量瓶的使用方法中,下列操作不正确的是
BC
BC
(填写标号).
A.使用容量瓶前检查它是否漏水
B.容量瓶用蒸馏水洗净后,再用待配溶液润洗
C.配制溶液时用量筒量取浓盐酸后用玻璃棒引流入容量瓶中,缓慢加入蒸馏水到接近标线1cm~2cm处,用胶头滴管滴加蒸馏水直到凹液面的最低处和标线相平
D.定容后盖好瓶塞,用食指顶住,用另一只手手指托住瓶底,把容量瓶倒转和摇动多次
II、(1)常温下,已知0.1mol?L-1一元酸HA溶液中c(OH-)/c(H+)=1×10-8
写出该酸HA与NaOH溶液反应的离子方程式式:
HA+OH-═A-+H2O
HA+OH-═A-+H2O

(2)t℃时,有pH=2的稀硫酸和pH=11的NaOH溶液等体积混合后溶液呈中性,
则该温度下(t℃),将100mL 0.1mol?L-1的稀H2SO4溶液与100mL 0.4mol?L-1的NaOH溶液混合后(溶液体积变化忽略不计),溶液的pH=
12
12
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I、下表是实验室制备气体的有关内容:
编号实验内容实验原理发生装置
制氧气H2O2→O2
制氨气NH4Cl→NH3
制氯气HCl→Cl2
(1)上述气体中:从制备过程看,必须选择合适的氧化剂才能实现的是______(填气体的化学式,下同);从反应中有无电子转移的角度看,明显不同于其他气体的是______,写出实验室制取该气体的化学方程式______.
(2)根据表中所列实验原理,从下列装置中选择合适的发生装置,将其编号填入上表的空格中.  
(3)若用上述制备O2的装置制备NH3,则选择的试剂为______.
已知:NH3?H2O的电离方程式为:NH3?H2O?NH+4+OH-,试写出NH3溶于水后,形成的NH3?H2O的合理结构______
(4)制备Cl2需用8mol?L-1的盐酸100mL,现用12mol?L-1的盐酸来配制.
①需要12mol?L-1的盐酸的体积为______mL(精确到0.1mL)
②在容量瓶的使用方法中,下列操作不正确的是______(填写标号).
A.使用容量瓶前检查它是否漏水
B.容量瓶用蒸馏水洗净后,再用待配溶液润洗
C.配制溶液时用量筒量取浓盐酸后用玻璃棒引流入容量瓶中,缓慢加入蒸馏水到接近标线1cm~2cm处,用胶头滴管滴加蒸馏水直到凹液面的最低处和标线相平
D.定容后盖好瓶塞,用食指顶住,用另一只手手指托住瓶底,把容量瓶倒转和摇动多次
II、(1)常温下,已知0.1mol?L-1一元酸HA溶液中c(OH-)/c(H+)=1×10-8
写出该酸HA与NaOH溶液反应的离子方程式式:______;
(2)t℃时,有pH=2的稀硫酸和pH=11的NaOH溶液等体积混合后溶液呈中性,
则该温度下(t℃),将100mL 0.1mol?L-1的稀H2SO4溶液与100mL 0.4mol?L-1的NaOH溶液混合后(溶液体积变化忽略不计),溶液的pH=______.

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(2012?长宁区一模)Ⅰ.工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.
(1)原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用.精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是
③①②
③①②
(填序号)洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为
.(填序号)(①饱和Na2CO3溶液  ②饱和K2CO3溶液  ③75%乙醇 ④四氯化碳)
(2)如图是离子交换膜(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是
氯气
氯气
;NaOH溶液的出口为
a
a
(填字母);精制饱和食盐水的进口为
d
d
(填字母);干燥塔中应使用的液体是
浓硫酸
浓硫酸


Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.
(1)SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
 高温 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高温 
.
 
SiO2+4HCl

(2)SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中的反应:
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)?4SiHCl3(g)
达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的质量为
0.351
0.351
kg.
(3)实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应:
Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑;MnO2+4HCl(浓)
MnCl2+Cl2↑+2H2O
据此,从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
e
e
(填代号)和制备并收集干燥、纯净Cl2的装置
d
d
(填代号).
可选用制备气体的装置:

(4)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气,现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
134.4
134.4
m3(标准状况).(忽略可能存在的其他反应)
某工厂生产硼砂过程中产生的固体废料,主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg(CO32、Al2O3和Fe2O3等,回收其中镁的工艺流程如下:

沉淀物 Fe(OH)3 Al(OH)3 Mg(OH)2
PH 3.2 5.2 12.4
Ⅲ.部分阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH见上表,请回答下列问题:
(1)“浸出”步骤中,为提高镁的浸出率,可采取的措施有
适当提高反应温度、增加浸出时间
适当提高反应温度、增加浸出时间
(要求写出两条).
(2)滤渣I的主要成分是
Fe(OH)3、Al(OH)3
Fe(OH)3、Al(OH)3

Mg(ClO32在农业上可用作脱叶剂、催熟剂,可采用复分解反应制备:
MgCl2+2NaClO3→Mg(ClO32+2NaCl
已知四种化合物的溶解度(S)随温度(T)变化曲线如图所示:

(3)将反应物按化学反应方程式计量数比混合制备Mg(ClO32.简述可制备Mg(ClO32的原因:
在某一温度时,NaCl最先达到饱和析出;Mg(ClO32的溶解度随温度变化的最大,NaCl的溶解度与其他物质的溶解度有一定的差别;
在某一温度时,NaCl最先达到饱和析出;Mg(ClO32的溶解度随温度变化的最大,NaCl的溶解度与其他物质的溶解度有一定的差别;

(4)按题(3)中条件进行制备实验.在冷却降温析出Mg(ClO32过程中,常伴有NaCl析出,原因是:
降温前,溶液中NaCl已达饱和,降低过程中,NaCl溶解度会降低,会少量析出;
降温前,溶液中NaCl已达饱和,降低过程中,NaCl溶解度会降低,会少量析出;
.除去产品中该杂质的方法是:
重结晶
重结晶
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