高中阶段常用化学反应方程式

1. 钠在空气中燃烧（黄色的火焰）
2. 钠与水反应（浮、熔、游、响、红）
3. 过氧化钠与水的反应
4. 过氧化钠与二氧化碳的反应
5. 苏打（纯碱）与盐酸反应
6. 小苏打受热分解
7. ＊固体氢氧化钠、碳酸氢钠混合物在密闭容器中加热
8. 金属锂在空气中燃烧
9. 铜丝在氯气中剧烈燃烧（棕色烟）
10. 铁在氯气中剧烈燃烧
11. 氢气在氯气中燃烧（苍白色火焰，瓶口白雾）
12. 氯气溶于水及新制氯水的成分：
13. 次氯酸见光分解（强氧化剂、杀菌消毒、漂白剂）
14. 工业制漂白粉原理
15. 氯气实验室制法（主仪器：分液漏斗、圆底烧瓶等）
16. 新制氯水注入盛溴化钠溶液的试管中
17. 用电子式表示溴化镁、氯化氢分子的形成
18. 铁与硫加热反应
19. 硫化氢充分燃烧
20. 硫化氢不完全燃烧
21. 硫化亚铁与稀盐酸反应
22. 二氧化硫制三氧化硫（无色固体，熔点16.8℃，44.8℃）
23. 浓硫酸与铜反应
24. 浓硫酸与非金属碳的反应
25. 工业制单质硅（碳在高温下还原二氧化硅）
26. 二氧化硅与氢氧化钠反应
27. 氮气和氢气反应
28. 氮气与氧气放电条件下反应
29. 二氧化氮溶于水
30. NO₂、O₂混合气通入水中无剩余气体
31. 一定量的NO、O₂混合通入水中无剩余气体
32. 五氧化二磷与热水反应
33. 磷在氯气中充分燃烧
34. 氨的催化氧化
35. 碳酸氢铵受热分解
36. 用浓盐酸检验氨气（白烟生成）
37. 硫酸铵溶液与氢氧化钠溶液混合加热
38. 硝酸铵溶液与氢氧化钠溶液混合（不加热）
39. 铝箔在氧气中剧烈燃烧
40. 铝片与稀盐酸反应
41. 铝与氢氧化钠溶液反应
42. 铝与三氧化二铁高温下反应（铝热反应）
43. 镁在二氧化碳中燃
44. 氧化铝溶于氢氧化钠溶液
45. 硫酸铝溶液中滴过量氨水
46. 氢氧化铝溶液中加盐酸
47. *高温下铁与水反应
48. 铁与盐酸反应
49. 氧化铁溶于盐酸中
50. 化铁中滴入氢氧化钠溶液（红褐色沉淀）
51. 氢氧化亚铁在空气中氧化
52. 氯化亚铁溶液中通入氯气
53. 氯化铁溶液中加入铁粉
54. 甲烷与氯气取代生成四氯化碳
55. 乙烯实验室制法（浓硫酸作催化剂，脱水剂）
56. 乙烯通入溴水中
57. 制取聚乙烯、聚丙烯
58. 乙制取
59. 由乙炔制聚乙烯
60. 与液溴反应（需铁作催化剂）
61. 苯的硝化反应
62. 与氢气加成生成环己烷
63. 甲苯发生硝化反应
64. 乙烷水解
65. 乙烷消去反应
66. 醇与钠反应
67. 乙醇催化氧化 
68. 苯酚与氢氧化钠溶液反应
69. 苯酚钠溶液中通入二氧化碳
70. 苯酚的定性检验定量测定方法：
71. 醛制1-丙醇
72. 醛制乙酸
73. 乙醛的银镜反应
74. 醛与新制氢氧化铜悬浊液
75. *乙酸与氢氧化铜悬浊液
76. 酸乙酯制取（用饱和碳酸钠溶液收集）
77. 葡萄糖结构简式
78. 蔗水解方程式
79. 淀粉水解
80. 硬脂酸甘油酯皂化反应

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH、Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。回答下列问题

Ⅰ.（1）写出晶片制绒反应的离子方程式               ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                   。

（2）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H₂O可作                剂；NaOH作_____             剂，降低反应             。高温无水环境下，NaOH作               剂。

Ⅱ.在工业中利用镁制取硅：2Mg＋SiO₂2MgO＋Si，同时有副反应发生：2Mg＋SiMg₂Si，Mg₂Si遇盐酸迅速反应生成SiH₄(硅烷)，SiH₄在常温下是一种不稳定、易分解的气体。如图是进行Mg与SiO₂反应的实验装置：

由于氧气的存在对该实验有较大影响，实验中应通入气体X作为保护气，试管中的固体药品可选用________(填序号)。        a．石灰石　　　b．锌粒　　　c．纯碱

（4）实验开始时，必须先通入X气体，再加热反应物，其理由是______________________________，当反应开始后，移走酒精灯反应能继续进行，其原因是___________________________。

（5）反应结束后，待冷却至常温时，往反应后的混合物中加入稀盐酸。可观察到闪亮的火星，产生此现象的原因用化学方程式表示为_______________________________________。

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。

回答下列问题

（1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                           ；

（2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                    ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                     。

（3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H₂O可作                 剂；NaOH作               剂，降低反应             。高温无水环境下，NaOH作               剂。

（4）在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）与氨气（NH₃）在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体，常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是                。

A．在使用硅烷时要注意隔离空气和水，SiH₄能与水发生氧化还原反应生成H₂；

B．硅烷与氨气反应的化学方程式为：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反应中NH₃作氧化剂；

C．它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能，化学稳定性很好，不与任何酸、碱反应；

D．氮化硅晶体中只存在共价键，Si₃N₄是优良的新型无机非金属材料。

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。
回答下列问题
（1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                          ；
（2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                   ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                    。
（3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH、Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。回答下列问题
Ⅰ.（1）写出晶片制绒反应的离子方程式              ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                  。
（2）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：