题目内容
如下图所示,两平行金属板间有一匀强电场,板长为L,板间距离为d,在板右端L处有一竖直放置的光屏M,一带电荷量为q,质量为m的质点从两板中央射入板间,最后垂直打在M屏上,则下列结论正确的是( )
A.板间电场强度大小为mg/q |
B.板间电场强度大小为2mg/q |
C.质点在板间的运动时间和它从板的右端运动到光屏的时间相等 |
D.质点在板间的运动时间大于它从板的右端运动到光屏的时间 |
BC
考点:
专题:带电粒子在电场中的运动专题.
分析:根据题意分析,质点最后垂直打在M屏上,必须考虑质点的重力.质点在平行金属板间轨迹应向上偏转,飞出电场后,质点的轨迹向下偏转,质点才能最后垂直打在M屏上.第一次偏转质点做类平抛运动,第二次斜向上抛运动平抛运动的逆过程,运用运动的分解法,根据对称性,分析前后过程加速度的关系,再研究电场强度的大小.水平方向质点始终做匀速直线运动,质点在板间运动的时间跟它从板的右端运动到光屏的时间相等.
解答:解:A、B据题分析可知,质点在平行金属板间轨迹应向上偏转,做类平抛运动,飞出电场后,质点的轨迹向下偏转,质点才能最后垂直打在M屏上,前后过程质点的运动轨迹有对称性,如图,可见两次偏转的加速度大小相等,根据牛顿第二定律得,qE-mg=mg,得到E=.故A错误,B正确.
C、D由于质点在水平方向一直做匀速直线运动,两段水平位移大小相等,则质点在板间运动的时间跟它从板的右端运动到光屏的时间相等.故C正确,D错误.
故选BC
点评:本题是类平抛运动与平抛运动的综合应用,基本方法相同:运动的合成与分解.
专题:带电粒子在电场中的运动专题.
分析:根据题意分析,质点最后垂直打在M屏上,必须考虑质点的重力.质点在平行金属板间轨迹应向上偏转,飞出电场后,质点的轨迹向下偏转,质点才能最后垂直打在M屏上.第一次偏转质点做类平抛运动,第二次斜向上抛运动平抛运动的逆过程,运用运动的分解法,根据对称性,分析前后过程加速度的关系,再研究电场强度的大小.水平方向质点始终做匀速直线运动,质点在板间运动的时间跟它从板的右端运动到光屏的时间相等.
解答:解:A、B据题分析可知,质点在平行金属板间轨迹应向上偏转,做类平抛运动,飞出电场后,质点的轨迹向下偏转,质点才能最后垂直打在M屏上,前后过程质点的运动轨迹有对称性,如图,可见两次偏转的加速度大小相等,根据牛顿第二定律得,qE-mg=mg,得到E=.故A错误,B正确.
C、D由于质点在水平方向一直做匀速直线运动,两段水平位移大小相等,则质点在板间运动的时间跟它从板的右端运动到光屏的时间相等.故C正确,D错误.
故选BC
点评:本题是类平抛运动与平抛运动的综合应用,基本方法相同:运动的合成与分解.
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