题目内容
【题目】将具有正常叶舌的水稻纯系的种子为材料，进行辐射诱变实验。将辐射后的种子单独隔离种植，发现甲、乙两株的后代各分离出无叶舌突变株，且正常株与无叶舌突变株的分离比例均为 3：1。经观察这些叶舌突变株都能正常遗传。请回答：
（1）甲和乙的后代均出现 3：1 的分离比，表明辐射诱变处理均导致甲、乙中各有 1 个基因发生_____性突变。甲株后代中，无叶舌突变基因的频率为_____。
（2）现要研究甲、乙两株叶舌突变是发生在同一对基因上，还是发生在两对基因上，请以上述实验中的甲、乙后代分离出的正常株和无叶舌突变株为实验材料，设计杂交实验予以判断。
①实验设计思路：选取甲、乙后代的____进行单株杂交，统计 F1 的表现型及比例。
②预测实验结果及结论：若 F1 全为正常植株，则____。
【答案】隐 50% 无叶舌突变株 甲乙两株叶舌突变发生在两对基因上
【解析】
根据题意，自交性状分离比例均为3:1，说明符合一对等位基因的分离定律，表明辐射诱变处理获得的为一对基因上的隐性突变；
用两种类型的无叶舌突变株杂交，若甲乙两株叶舌突变发生在同一对基因上，则杂交后代应为纯合体，后代全为无叶舌突变株；若甲乙两株叶舌突变发生在两对基因上，则杂交后代应为杂合体，后代全为正常植株。
（1）根据题干信息可知，自交后代出现性状分离，且比例为正常株：无叶舌突变株=3:1，说明符合一对等位基因分离定律，说明甲、乙中各有1个基因发生隐性突变；若用A、a表示正常基因与叶舌突变基因，则甲株后代中AA：Aa：aa=1:2:1，则无叶舌突变基因的频率为50%；
（2）①用两种类型的无叶舌突变株杂交；②若甲乙两株叶舌突变发生在同一对基因上，则杂交后代应为纯合体，F1全为无叶舌突变株；若甲乙两株叶舌突变发生在两对基因上，则F1后代应为杂合体，后代全为正常植株。
【题目】霍山石斛是我国濒临灭绝的珍稀中药材，研究人员对它的栽培条件进行了相关研究，实验结果如下。
处理 | L1 | L2 | L3 | |||||||||||||||
W1 | W2 | W3 | W1 | W2 | W3 | W1 | W2 | W3 | ||||||||||
T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | T1 | T2 | |
干重/g | 1.91 | 2.91 | 2.48 | 3.43 | 1.41 | 2.31 | 1.58 | 2.58 | 2.89 | 3.79 | 1.87 | 2.86 | 0.93 | 1.93 | 1.34 | 2.34 | 1.48 | 2.41 |
注：1L1、L2和L3分别代表光照强度为360、240和120 μmol/(m2·s)。
2W1、W2和W3分别代表基质含水量为基质最大持水量的100%、70%和40%。
3T1、T2分别代表气温为10℃和25℃。
回答下列问题：
（1）该实验研究了基质含水量、__________、__________对霍山石斛光合作用的影响。
（2）在气温较低的情况下，由于影响了__________的活性，导致霍山石斛的产量较低。
（3）据表分析，霍山石斛在__________(填字母)条件下的生长状况最好。
（4）为保证霍山石斛的产量，请根据研究结果提出在强光条件下的栽培建议：__________、__________。
（5）除以上控制条件外，我们还可以适当增加环境中__________来促进光合作用的暗反应阶段，从而提高产量。