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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
| A．NF3分子中所有原子共平面 | B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 | D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
B
试题分析：A、NF3的结构类似于NH3，为三角锥，不共面，错误；B、NF3中N元素的化合价为+3，部分升高为+5价，部分降低为+2价，既做氧化剂又做还原剂，正确；C、生成0.2mol HNO3时转移电子：0.2mol×2=0.4mol，错误；D、氧化产物为HNO3，还原产物为NO，所以氧化产物与还原产物的物质的量之比为1:2，错误。
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口算题卡北京妇女儿童出版社系列答案
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HSO3- + H+的电离常数Ka= 1×10-2 mol/L，则该温度下NaHSO3的水解平衡常数Kh= mol/L，若向NaHSO3溶液中加入少量的I2，则溶液中
将 （填“增大”“减小”或“不变”，下同）； 加入少量NaOH溶液，
的值 ；加入少量水，水的电离程度将 。
与一定浓度的
反应，生成
，当
的物质的量之比为
时，实际参加反应的