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下列反应离子方程式正确的是
A.FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe3+ +Cu = Fe2+ + Cu2+
B.硅酸钠溶液和稀硫酸混合:Na2SiO3+2H = H2SiO3↓+2Na+
C.Ba(OH)2溶液与稀硫酸反应:Ba2++OH+H++SO42=BaSO4↓+H2O
D.向氯化铝溶液中滴加过量氨水:Al3+3NH3·H2O=Al(OH)3↓+3NH4
D

试题分析:A、电子得失不守恒,应该是2Fe3+ +Cu = 2Fe2+ + Cu2+,A不正确;B、硅酸钠是应该用离子符号表示,正确的是SiO32+2H =H2SiO3↓,B不正确;C、不符合定比组分比,应该是Ba2++2OH+2H++SO42=BaSO4↓+2H2O,C不正确;D、氨水是弱碱,不能溶解氢氧化铝,D正确,答案选D。
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