题目内容
(16分)三氟化氮（NF3）是一种无色、无味、无毒且不可燃的气体，在半导体加工、太阳能电池制造和液晶显示器制造中得到广泛应用。它可在铜的催化作用下由F2和过量的NH3反应得到，该反应另一种产物为盐。
（1）该反应的化学方程式为 ▲ ，每生成1molNF3,转移的电子数为 ▲ ，生成物NF3中氮原子的杂化方式为 ▲ ，NF3分子空间构型为 ▲ ；
（2）N、F两种元素的氢化物稳定性比较，NH3 ▲ HF（选填“>”或“<”）；
（3）N3-被称为类卤离子，写出1种与N3-互为等电子体的分子的化学式 ▲ ；
（4） 氯化铜溶液中加入过量氨水，可以生成四氨合铜络离子， 写出该反应的化学方程式 ▲ ；
（5）元素A基态原子的核外电子排布式为1s22s22p63s23p64s2，A跟氟可形成离子化合物，其晶胞结构如左图，该离子化合物的化学式为 ▲ 。
【答案】
【解析】略
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应用。它可在铜的催化作用下由F2和过量的NH3反应得到，该反应另一种产物为盐。
较，NH3 HF（选填“>”或“<”）；
应用。它可在铜的催化作用下由F2和过量的NH3反应得到，该反应另一种产物为盐。
▲ ，生成物NF3中氮原子的杂化方式为 ▲ ，NF3分子空间构型为 ▲ ；
较，NH3 ▲ HF（
选填“>”或“<”）；