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高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。下图是合成具有特殊功能高分子材料W()的流程:

已知:(R、R1、R2代表烃基)

I、RCH2OH

II、

⑴反应①的反应类型是_______________。

⑵反应②是取代反应,其化学方程式是___________________________________________。

⑶D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1:3,不存在顺反异构。D的结构简式是______。

⑷反应⑤的化学方程式是__________________________________________________。

⑸G的结构简式是__________________。

⑹反应⑥的化学方程式是__________________________________________________。

⑺工业上也可用合成E。由上述①~④的合成路线中获取信息,完成下列合成路线(箭头上注明试剂和反应条件,不易发生取代反应)__________________

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