题目内容
高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。下图是合成具有特殊功能高分子材料W(
)的流程：
已知：(R、R1、R2代表烃基)
I、
RCH2OH
II、
⑴反应①的反应类型是_______________。
⑵反应②是取代反应，其化学方程式是___________________________________________。
⑶D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1:3，不存在顺反异构。D的结构简式是______。
⑷反应⑤的化学方程式是__________________________________________________。
⑸G的结构简式是__________________。
⑹反应⑥的化学方程式是__________________________________________________。
⑺工业上也可用
合成E。由上述①~④的合成路线中获取信息，完成下列合成路线（箭头上注明试剂和反应条件，
不易发生取代反应）__________________
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