题目内容
由二氧化硅制高纯硅的流程如图，下列判断中错误的是（ ）
| A．①②③均属于氧化还原反应 |
| B．H2和HCl均可循环利用 |
| C．SiO2是一种坚硬难熔的固体 |
| D．SiHCl3摩尔质量为135.5g |
A．反应①为SiO2+2C
Si+2CO↑，反应②Si（粗）+3HCl
SiHCl3+H2，反应③SiHCl3+H2
Si（粗）+3HCl，三个方程式中元素的化合价均发生变化，均属于氧化还原反应，故A正确；
B．生产高纯硅的流程示意图可知，H2和HCl既是反应物，又是生成物，所以可重复利用的物质是H2和HCl，故B正确；
C．SiO2是原子晶体，硬度大、熔点高，故C正确；
D．SiHCl3摩尔质量为135.5g/mol，故D错误；
故选D．
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B．生产高纯硅的流程示意图可知，H2和HCl既是反应物，又是生成物，所以可重复利用的物质是H2和HCl，故B正确；
C．SiO2是原子晶体，硬度大、熔点高，故C正确；
D．SiHCl3摩尔质量为135.5g/mol，故D错误；
故选D．
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