题目内容
近年来研制的NH3气体可用作氟化氢一氟化氚高能化学激光器的氟源，也可作为火箭推进剂，NF3可用NH3与氟气制取，化学方程式为：4NH3＋3F2
NF3＋3H4F，下列说法不正确的是
A．NF3的形成过程用电子式可表示为 |
| B．NF3的氧化性大于F2 |
| C．NF3分子空间构型为三角锥形 |
| D．NH4F中既有离子键又有极性共价键 |
B
解析F2为氧化剂，而NF3为氧化产物，故氧化性F2＞NF3，B错误选B。
练习册系列答案
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题目内容
近年来研制的NH3气体可用作氟化氢一氟化氚高能化学激光器的氟源，也可作为火箭推进剂，NF3可用NH3与氟气制取，化学方程式为：4NH3＋3F2NF3＋3H4F，下列说法不正确的是
| A．NF3的形成过程用电子式可表示为 |
| B．NF3的氧化性大于F2 |
| C．NF3分子空间构型为三角锥形 |
| D．NH4F中既有离子键又有极性共价键 |
B
解析F2为氧化剂，而NF3为氧化产物，故氧化性F2＞NF3，B错误选B。
NF3＋3H4F，下列说法不正确的是
＋3:
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