题目内容
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
A．NF3分子中所有原子共平面 B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂
C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1
【答案】
B
【解析】
试题分析：A、NF3的结构类似于NH3，为三角锥，不共面，错误；B、NF3中N元素的化合价为+3，部分升高为+5价，部分降低为+2价，既做氧化剂又做还原剂，正确；C、生成0.2mol HNO3时转移电子：0.2mol×2=0.4mol，错误；D、氧化产物为HNO3，还原产物为NO，所以氧化产物与还原产物的物质的量之比为1:2，错误。
考点：本题考查氧化还原反应的分析、物质的空间结构。
练习册系列答案
科学实验活动册系列答案
相关题目
三氟化氮(NF3)是一种无色、无味的气体，它是微电子工业技术的关键原料之一，可由氨气和氟气反应得到：4NH3＋3F2===NF3＋3NH4F。在潮湿的空气中，NF3能与水蒸气发生氧化还原反应，其反应的产物有HF、NO和HNO3。下列说法正确的是( )
| A．制取NF3的反应中，氧化剂与还原剂的物质的量之比为3∶1 |
| B．在NF3与H2O的反应中，H2O作还原剂 |
| C．若在制取NF3的反应中有0.5 mol NH3参加反应，转移电子的物质的量为3 mol |
| D．NF3在空气中一旦泄漏，不易于发现 |