题目内容
3个SO32-恰好将2个XO4-离子还原,SO32-被氧化为SO42-,则X元素在还原产物中的化合价是( )
A.+1 B.+2 C.+3 D. +4
氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域中有重要用途。
Ⅰ.工业上有多种方法来制备氮化硅,下面是几种常见的方法:
(1)方法一 直接氮化法:在1300~1400 ℃时,高纯粉状硅与纯氮气化合,其反应方程式为3Si+2N2Si3N4
(2)方法二 可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应,并在600 T的加热基板上生成氮化硅膜,其反应方程式为___________________。
(3)方法三 化学气相沉积法:在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl,与方法一相比,用此法制得的氮化硅纯度较高,其原因是___________________。
(4)方法四 Si(NH2)4热分解法:先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体__________________(填分子式);然后使Si(NH2)4受热分解,分解后的另一种产物的分子式为_________________。
Ⅱ.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下:
已知:X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应,Y与X在光照或点燃条件下可反应,Z的焰色呈黄色。
(1)写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式:__________________
(2)上述生产流程中电解A的水溶液时,以Cu为阳极电解A的水溶液电解反应方程式为 。
(1)CuSO4的水溶液呈 (填“酸”、“中”、“碱”) 性,实验室在配制CuSO4的溶液时,常将CuSO4固体先溶于硫酸中,然后再用蒸馏水稀释到所需的浓度,以 (填“促进”、“抑制”)其水解。
(2)泡沫灭火器中的主要成分是Al2(SO4)3和NaHCO3溶液,反应的离子方程式为
(3)用离子方程式表示明矾净水原理_________________
(4)对于Ag2S(s)2Ag+(aq)+ S2-(aq),其Ksp=____________。
(5)下列说法不正确的是__________。
A.用稀盐酸洗涤AgCl沉淀比用水洗涤损耗AgCl小;
B.物质的溶解度随温度的升高而增加,故物质的溶解都是吸热的;
C.对于Al(OH)3(s)Al(OH)3(aq)Al3++3OH-,前者为溶解平衡,后者为电离平衡;
D.除去溶液中的Mg2+,用OH-沉淀Mg2+比用CO32-效果好,说明Mg(OH)2的溶解度比MgCO3大
E.沉淀反应中常加过量的沉淀剂,其目的是使沉淀完全。
能说明醋酸是弱电解质的是
A.中和10mL 1mol/L CH3COOH溶液需要10ml 1mol/L NaOH溶液
B.用食醋可以除热水瓶内的水垢
C.pH=2的醋酸溶液稀释1000倍后pH小于5
D.用浓H2SO4和醋酸钠固体共热可制得醋酸
I、现有以下物质:①NaCl固体 ②液态SO3 ③液态的醋酸 ④汞 ⑤BaSO4固体 ⑥蔗糖(C12H22O11) ⑦酒精(C2H5OH) ⑧熔化的KNO3 。请回答下列问题(填序号):
(1)以上物质中能导电的是 ;
(2)以上物质属于电解质的是 ;
(3)以上物质中属于非电解质的是 ;
II、写出下列反应的离子方程式
(1)氧化铜与稀硝酸反应 ;
(2)向氢氧化钡溶液中加入硫酸铜溶液 ;
(3)向硫酸氢钠溶液中加入锌粉 ;
(4)石灰乳与盐酸反应 ;
(5)向Na2CO3溶液中加入足量醋酸: 。
下列物质中氧原子数目与11.7 g Na2O2中氧原子数一定相等的是 ( )
A.6.72 L CO B.6.6 g CO2 C.24 g SO3 D.9.8 g H2SO4
2 mol Cl2和2 mol CO2相比较,下列叙述中正确的是( )
A.体积相等 B.质量相等 C.分子数相等 D .原子数相等
下列离子方程式改写成化学方程式正确的是( )
A.Cu+2Ag+=Cu2++2Ag;Cu+2AgCl=CuCl2+2Ag
B.CO32-+2H+=CO2↑+H2O;BaCO3+2HCl=BaCl2+CO2↑+H2O
C.Al3++3OH-=Al(OH)3↓;Al(NO3)3+3NH3•H2O=Al(OH)3↓+3NH4NO3
D.H++OH-=H2O;Ba(OH)2+2HNO3=Ba(NO3)2+2H2O
下列离子在溶液中因发生氧化还原反应而不能大量共存的是
A.H+、NO3-、Fe2+、Na+ B.Ag+、K+、I-、Cl-
C.K+、Ba2+、OH-、SO42- D.K+、Cu2+、Br-、OH-