题目内容
【题目】下列有关化工生产的叙述错误的是( )
①电解熔融的氯化钠制取金属钠 ②将钠加入氯化镁饱和溶液中制取镁 ③用电解法冶炼铝时,原料是氯化铝 ④炼铁时高炉中所发生的反应都是放热反应,故无需加热
A. ②③ B. ①③ C. ①②③ D. ②③④
【答案】D
【解析】钠特别活泼,加入氯化镁溶液时钠先与水反应生成NaOH和H2,Mg2+和OH-反应生成Mg(OH)2沉淀,②错;冶炼铝使用的是Al2O3,③错;高炉炼铁中所发生的反应是放热反应,但仍需要高温,④错。
【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:____________________________。
(2)装置A中g管的作用是______________;装置C中的试剂是____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式为5Fe2++MnO+8H+===5Fe3++Mn2++4H2O。
①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由:
____________________________________________________________。
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol· L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。
【题目】下列实验操作规范且能达到目的的是
目的 | 操作 | |
A. | 取20.00 mL盐酸 | 在50 mL酸式滴定管中装入盐酸,调整初始读数为30.00mL后,将剩余盐酸放入锥形瓶 |
B. | 清洗碘升华实验所用试管 | 先用酒精清洗,再用水清洗 |
C. | 测定醋酸钠溶液pH | 用玻璃棒蘸取溶液,点在湿润的pH试纸上 |
D. | 配制浓度为0.010的KMnO4溶液 | 称取KMnO4固体0.158 g,放入100 mL容量瓶中,加水溶解并稀释至刻度 |
A. A B. B C. C D. D