题目内容

【题目】NiSO4、NiCl2是制取高纯镍和电镀行业的重要原料,回答下列问题:

(1)碱性条件下利用肼(N2H2)还原NiCl2溶液可生成高纯Ni纳米粒子和某气体单质,写出反应的离子方程式_________________________________。温度对反应时间和Ni粒径的影响如图所示,温度为___________(选填字母)℃时,很难形成纳米级别的Ni(已知纳米级别的Ni与胶体分散质的大小一致)。

A.43 B.50 C.64 D.79

(2)利用某含镍废料(主要成分为Ni,还含有铝、铁的氧化物)可制备硫酸镍晶体(NiSO4·7H2O),其流程如图所示:

已知:Ksp[Ni(OH)2]=2.0×10-15 K sp[Fe(OH)2]=8.0×10-16

K sp[Fe(OH)3]=4.0×10-38

①写出“氧化”步骤中发生反应的化学方程式_________________________________,步骤需要控制温度40℃左右,其目的是_________________________________

②已知“酸浸”所得滤液中c(Ni2+)=1mol/L,c(Fe2+)=0.1mol/L,试通过计算证明“氧化”步骤的必要性__________________________________________________________________(离子浓度小于1×10-5mol/L时可认为沉淀完全,要有计算过程和合理的文字叙述)。

③“系列操作”包括__________、冷却结晶、过滤、乙醇洗涤、干燥等操作,其中利用乙醇洗涤硫酸镍晶体的优点是____________________________________________

【答案】N2H2+2Ni2++ 4OH==2 Ni+N2↑+ 4H2O D 2FeSO4+H2O2+H2SO4==Fe2(SO4)3+2H2O 加快反应速率,防止温度过高H2O2分解 Fe2+恰好沉淀完全时, ,此时,因此若无“氧化”步骤,当Fe2+恰好沉淀完全时,Ni2+也会生成沉淀 蒸发浓缩 减少硫酸镍晶体因溶解而造成的损失,更有利于硫酸镍晶体的干燥

【解析】

本题以Ni的化工流程为线索,考查了陌生氧化还原方程式的书写、Ksp的相关计算、控制反应温度的目的和制取晶体的实验操作规范等知识点。

(1)由题意Ni化合价下降,则N化合价升高,所以单质为N2,故离子反应方程式为N2H2+2Ni2++ 4OH== 2Ni+N2↑+ 4H2O;胶体粒径范围为1-100nm,由图中信息可知,当温度在79℃左右时,粒径大于100nm,难以形成纳米级别的Ni,故选D。

(2)①原料中含有铁的氧化物,可能含有Fe2+双氧水可将其氧化为Fe3+,对应方程式为2FeSO4+H2O2+H2SO4==Fe2(SO4)3+2H2O;温度过低时,反应速率过慢,温度过高时,双氧水易分解。故实际控制温度40℃左右,其目的是:既可以加快反应速率,也可以防止温度过高H2O2分解;

②Fe2+恰好沉淀完全时,,此时,因此若无“氧化”步骤,当Fe2+恰好沉淀完全时,Ni2+也会生成沉淀;

③从滤液中获取晶体常见操作为蒸发浓缩、冷却结晶、过滤、洗涤、干燥,利用乙醇洗涤可减少硫酸镍晶体因溶解而造成的损失,更有利于硫酸镍晶体的干燥。

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