题目内容
【题目】高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如下:
下列说法正确的是 ( )
A. 自然界中存在大量的单质硅
B. 步骤电弧炉中的化学方程式为SiO2+CSi+CO2↑
C. 二氧化硅能与氢氟酸反应,而硅不能与氢氟酸反应
D. SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量的SiCl4(沸点67.6 ℃),通过蒸馏(或分馏)可提纯SiHCl3
【答案】D
【解析】A、硅在自然界中没有单质硅,只有化合态的硅,故A错误;B、电弧炉中的化学方程式为SiO2 +2CSi+2CO↑,所以B错误;C、二氧化硅和硅都能与氢氟酸反应,所以C错误;D、SiHCl3(沸点33.0 ℃)和SiCl4(沸点67.6 ℃)的沸点有较大差距,所以可通过蒸馏(或分馏)提纯SiHCl3,故D正确。本题正确答案为D。
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