题目内容

由二氧化硅制高纯硅的流程如下,下列判断中错误的是

A.①②③均属于氧化还原反应 B.H2和HCl均可循环利用
C.SiO2是一种坚硬难熔的固体 D.SiHCl3摩尔质量为135.5g

D

解析试题分析:A.反应①为SiO2+2C=Si+2CO↑,反应②Si(粗)+3HCl=SiHCl3+H2,反应③SiHCl3+H2=Si(粗)+3HCl,三个方程式中元素的化合价均发生变化,均属于氧化还原反应,故A正确;B.生产高纯硅的流程示意图可知,H2和HCl既是反应物,又是生成物,所以可重复利用的物质是H2和HCl,故B正确;C.SiO2是原子晶体,硬度大、熔点高,故C正确;D.SiHCl3摩尔质量为135.5g/mol,故D错误;故选D.
考点:本题主要考查了氧化还原反应的判断、原子晶体的性质,摩尔质量的单位,难度不大,根据所学知识即可完成.

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