Question

【题目】硅是一种重要的半导体材料，应用范围广，三氯苯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

（1）硅属于_______(填“金属”或“非金属”)元素；

（2）上述流程中最后一步反应的化学方程式为____________。

（3）如果还原SiHCl3过程中混入O2，可能引起的后果是___________。

（4）该流程中可以循环利用的物质的化学式是_____________。

Answer 1

【答案】（1）非金属；（2）H2+SiHCl3Si+3HCl（3）爆炸；（4）HCl。

【解析】

试题分析：（1）硅的名称中带有“石”字旁，属于非金属，故答案为：非金属；

（2）上述流程中最后一步反应的化学方程式为：SiHCl+H2Si+3HCl，故答案为： SiHCl+H2Si+3HCl；

（3）如果还原SiHCl过程中混入O2，会形成氢气和氧气混合气体，点燃时易引起爆炸，故答案为：爆炸；

（4）该流程中可以循环利用的物质的化学式是HCl，故答案为： HCl。