题目内容
【题目】砹(At)是原子序数最大的卤族元素，对砹及其化合物的叙述，正确的是
A. 与H2化合的能力：At2＞I2 B. 砹在常温下为白色固体
C. 砹原子的最外层有7个电子 D. 砹易溶于水，难溶于四氯化碳
【答案】C
【解析】根据同主族元素性质的相似性和递变性解答。
A．非金属元素的非金属性越强，与氢气化合越容易，At的非金属性较弱，所以与H2化合能力：I2＞At2，A错误；
B．卤素单质均有颜色，所以砹不可能为白色，B错误；
C．卤族元素的最外层电子数均是7个，因此砹原子的最外层有7个电子，C正确；
D．卤素单质易溶于有机溶剂，则砹难溶于水，易溶于四氯化碳，D错误；
答案选C。
世纪百通期末金卷系列答案
【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | － | 315 | － |
熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | － | － | － |
升华温度/℃ | － | － | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式：____________________________。
(2)装置A中g管的作用是______________；装置C中的试剂是____________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式为5Fe2＋＋MnO
＋8H＋===5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O。
①滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)，请说明理由：
____________________________________________________________。
②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol· L－1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________。
