Question

三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：
（1）SiO₂与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为

 

（2）上述生产流程中可循环使用的物质是

 

和

 

（3）上述4步中，是氧化-还原反应的是（填序号）

 

．

Answer 1

考点：物质的相互转化和制备,氧化反应,还原反应,书写化学方程式、文字表达式、电离方程式

专题：物质的制备

分析：（1）根据题意分析反应，写出反应的化学方程式；
（2）根据反应的生产流程示意图，分析可循环使用的物质；
（3）根据氧化-还原反应的定义分析．

解答：解：（1）SiO₂与碳反应生成碳的低价化合物，根据质量守恒定律，碳的低价化合物应是一氧化碳，反应的化学方程式是：2C+SiO₂

高温  .

Si+2CO↑．
（2）上述生产流程中由粗硅到三氯甲硅烷和由三氯甲硅烷到高纯硅是两个相反的过程，因此，这些过程中，H₂、HCl可以循环使用；
（3）在①②④的反应中都有单质参加反应，一定有化合价的变化，都属于氧化-还原反应．
故答为：（1）2C+SiO₂

高温  .

Si+2CO↑；（2）HCl，H₂； （3）①②④．

点评：以流程图呈现实验过程的探究性考题，是近几年中考探究题命题特点之一．读懂实验流程图，明确实验步骤和原理，是正确解答此类问题的前提