题目内容
硅是重要的半导体材料。X+H2
3HCl+Si（高纯）是工业制硅流程中的一个化学反应方程式，则X为（ ）
A. SiCl B. SiCl3 C. SiHCl3 D. SiH2Cl3
练习册系列答案
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把X、Y、Z三种金属片分别加入稀硫酸中，X、Y表面有气泡产生，Z无变化；把X加入Y的硫酸盐溶液中，X表面析出Y。则三种金属活动顺序为（）
A. Y＞X＞Z
B. X＞Y＞Z
C. Z＞Y＞X
D. X＞Z＞Y
题目内容
硅是重要的半导体材料。X+H23HCl+Si（高纯）是工业制硅流程中的一个化学反应方程式，则X为（ ）
A. SiCl B. SiCl3 C. SiHCl3 D. SiH2Cl3
把X、Y、Z三种金属片分别加入稀硫酸中，X、Y表面有气泡产生，Z无变化；把X加入Y的硫酸盐溶液中，X表面析出Y。则三种金属活动顺序为（）
A. Y＞X＞Z
B. X＞Y＞Z
C. Z＞Y＞X
D. X＞Z＞Y