题目内容
2017年5月26日，Alpha Go人机配对赛开战，Alpha Go的芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成。在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸(HF)来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO2＋6HF=H2SiF6＋2X。已知硅元素显＋4价。下列说法错误的是( )
A.生成物X的化学式是H2O B.该反应是复分解反应
C.H2SiF6中氟元素显-1价 D.地壳中硅元素含量仅次于氧元素
练习册系列答案
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中华人民共和国成立 70 周年双色铜合金纪念币于 2019 年 9 月 11 日 0 点起开 始接受预约与兑换，该硬币外环为黄铜合金，内芯为具有独特机读性能的镍带复 合白铜造币材料。某兴趣小组同学取黄铜样品（铜锌合金）13 g 放入烧杯中，将150 g 稀硫酸分 5 次加入，充分反应后，测得剩余固体质量如下：
次数 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
加入稀硫酸的质量/g | 30 | 30 | 30 | 30 | 30 |
剩余固体的质量/g | 11.7 | 10.4 | 9.1 | m | 7.8 |
（1）表中 m 的值为_____。
（2）计算所用稀硫酸的溶质质量分数_____（写出计算过程，结果精确至 0.1%）。
（3）请在图中画出样品中加入 150 g 稀硫酸，产生气体的质量与所加稀硫酸的 质量变化关系曲线。_____ [建议同学们自己根据题给坐标并描点绘制 曲线]
向一定体积
t℃时向一定量饱和
向一定量
混合液中不断滴入
溶液
向
和
的混合液中加入过量的
溶液
