Question

【题目】华为公司最新芯片概解980处理器的应用，摆脱了对国外产品的依赖。芯片的主要部件半导体硅元件生产中，常用氢氟酸（HF）来消除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO2+6HF=H2SiFn+2H2O，n的值是

A.2B.4C.6D.8

Answer 1

【答案】C

【解析】

由反应的化学方程式可以看出方程式的左边有6个F，则方程式的右边也要有6个F，故n=6；故选C。