Question

【题目】高纯度的单晶硅是制做电子集成电路的基础材料。工业上制备高纯硅的化学反应原理为：

①SiO2+2CSi +2CO↑、②Si+3HClHSiCl3+H2、③HSiCl3+H2Si+3X，反应①制得粗硅，通过反应②③进一步得到高纯硅；三氯硅烷(HSiCl3)的沸点是31.8℃。下列有关说法不正确的是

A. 反应③中X的化学式为HCl

B. 三氯硅烷由氢、硅、氯三种元素组成

C. 三氯硅烷中硅、氯元素的质量比为1∶3

D. 反应②③实现了硅元素的富集，将粗硅转化为高纯硅

Answer 1

【答案】C

【解析】

根据质量守恒定律，反应前后原子个数不变，原子质量不变。

A、反应③HSiCl3+H2Si+3X，根据质量守恒定律，反应前后原子个数不变，则X的化学式为HCl，故A正确；

B、三氯硅烷化学式为，则三氯硅烷由氢、硅、氯三种元素组成，故B正确；

C、三氯硅烷中硅、氯元素的质量比为，故C不正确；

D、反应②③实现了硅元素的富集，将粗硅转化为高纯硅，故D正确。故选C。