题目内容

请分别写出除去下列物质中含有少量的杂质的化学方程式(括号内的物质为杂质)
(1)NaOH (Na2CO3):                                      
(2)Cu(CuO):                              
(1)Ca(OH)2+Na2CO3═CaCO3 ↓+2NaOH;(2)CuO+2HCl=CuCl2+H2O.

试题分析:(1)要除去碳酸根离子而又不引入新的杂质,加入适量的氢氧化钙,碳酸钠和氢氧化钙反应生成碳酸钙沉淀和氢氧化钠,过滤后就可以得到氢氧化钠;(2)一般可以用酸将氧化铜除去,而不宜用一氧化碳或者氢气等还原,那样过于复杂.故答案为:CuO+2HCl=CuCl2+H2O.
练习册系列答案
相关题目
(7分)目前,计算机已进入千家万户。制造计算机的芯片需要大量的高纯硅,生产高纯硅的主要原料是沙子(主要成分为SiO2)。二氧化硅既不溶于水,也不溶于一般的酸溶液。
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下:

其主要反应原理为:
①SiO2+2CSi(粗)+2CO
②Si(粗)+2Cl2SiCl4   
③SiCl4+2H2Si(纯)+4HCl
请你根据上述材料,回答下列问题:
(1)由沙子制得高纯硅的反应原理中,属于化合反应的是        (填数字代号,下同),属于置换反应的是         
(2)由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行,除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外,还有一个原因是                                         
(3)生产过程示意图中的“物质A”用水吸收,可得副产品(一种常见的酸)的名称是              。  
(4)作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子,纯度要求高,需要对普通沙子(含有少量的CaCO3、Fe2O3)进行提纯,其中用酸洗(用盐酸)和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是                                                            ;判断用高纯水洗是否洗净的方法是:取少量最后的洗涤液于试管中,向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸,若无                  现象,则表明残留物已洗净;否则,表明残留物未洗净。

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网