题目内容

除去下列物质中所含杂质,选用的试剂(括号内的物质)正确的是
A.CaO中混有少量CaCO3(盐酸)
B.Cu(NO3)2溶液中混有AgNO3(铜粉)
C.CO2中混有HCl气体(NaOH溶液)
D.CO2中混有少量CO(氧气)
B

试题分析:根据原物质和杂质的性质选择适当的除杂剂和分离方法,所谓除杂(提纯),是指除去杂质,同时被提纯物质不得改变.除杂质题至少要满足两个条件:①加入的试剂只能与杂质反应,不能与原物质反应;②反应后不能引入新的杂质:A.氧化钙和碳酸钙均能与盐酸反应,不但能把杂质除去,也会把原物质除去,不符合除杂原则,故A错误;B.铜与硝酸银反应生成硝酸铜和银,过滤后将银除去,最后就只剩硝酸铜了,故B正确;C.CO2和HCl气体均能与NaOH溶液反应,不但能把杂质除去,也会把原物质除去,不符合除杂原则;故C错误;D.除去二氧化碳中的一氧化碳不能够通氧气点燃,这是因为,当二氧化碳大量存在时,少量的一氧化碳不能与氧气充分接触,不会燃烧,故D错误,故选B
练习册系列答案
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(7分)目前,计算机已进入千家万户。制造计算机的芯片需要大量的高纯硅,生产高纯硅的主要原料是沙子(主要成分为SiO2)。二氧化硅既不溶于水,也不溶于一般的酸溶液。
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下:

其主要反应原理为:
①SiO2+2CSi(粗)+2CO
②Si(粗)+2Cl2SiCl4   
③SiCl4+2H2Si(纯)+4HCl
请你根据上述材料,回答下列问题:
(1)由沙子制得高纯硅的反应原理中,属于化合反应的是        (填数字代号,下同),属于置换反应的是         
(2)由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行,除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外,还有一个原因是                                         
(3)生产过程示意图中的“物质A”用水吸收,可得副产品(一种常见的酸)的名称是              。  
(4)作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子,纯度要求高,需要对普通沙子(含有少量的CaCO3、Fe2O3)进行提纯,其中用酸洗(用盐酸)和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是                                                            ;判断用高纯水洗是否洗净的方法是:取少量最后的洗涤液于试管中,向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸,若无                  现象,则表明残留物已洗净;否则,表明残留物未洗净。

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