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硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础。回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号为 ,该能层具有的原子轨道数为 、电子数为 。
(2)硅主要以硅酸盐、 等化合物的形式存在于地壳中。
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以 相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献 个原子。
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4,该反应的化学方程式为 。
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
化学键 |
C—C |
C—H |
C一O |
Si—Si |
Si—H |
Si一O |
键能/(kJ·mol-1) |
356 |
413 |
336 |
226 |
318 |
452 |
①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是 。
②SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是 。
(6)在硅酸盐中,SiO44-四面体(如下图(a))通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图(b)为一种无限长单链结构的多硅酸根,其中Si原子的杂化形式为 。Si与O的原子数之比为 。
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[化学—选修3:物质结构与性质](15分)
硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础。请回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号为 ,该能层具有的原子轨道数为 、电子数为 。
(2)硅主要以硅酸盐、 等化合物的形式存在于地壳中。
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以 相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献 个原子。
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4,该反应的化学方程式为 。
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
化学键 |
C—C |
C—H |
C—O |
Si—Si |
Si—H |
Si—O |
键能/(kJ?mol-1 |
356 |
413 |
336 |
226 |
318 |
452 |
①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是 。
②SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是 。
(6)在硅酸盐中,SiO4- 4四面体(如下图(a))通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图(b)为一种无限长单链结构的多硅酸根,其中Si原子的杂化形式为 ,Si与O的原子数之比为 ,化学式为 。
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(1)液态双氧水(过氧化氢)的电子式 该分子是
(2)A的结构式为该分子中的中心原子的杂化类型是
(3)A能与硫酸反应生成B.B的结构与硫酸铵相似,则B的晶体内存在
(1)液态双氧水(过氧化氢)的电子式______ 该分子是______分子(填“极性”或“非极性”)
(2)A的结构式为______该分子中的中心原子的杂化类型是______.若该物质与液态双氧水恰好完全反应,产生两种无毒又不污染环境的物质,写出该反应的化学方程式______.若该反应中有4mol N-H键断裂,则形成的π键有______mol.
(3)A能与硫酸反应生成B.B的结构与硫酸铵相似,则B的晶体内存在______(填标号) a.离子键 b.共价键 c.配位键 d.范德华力.
(1)液态双氧水(过氧化氢)的电子式 该分子是 分子(填“极性”或“非极性”)
(2)A的结构式为 该分子中的中心原子的杂化类型是 .若该物质与液态双氧水恰好完全反应,产生两种无毒又不污染环境的物质,写出该反应的化学方程式 .若该反应中有4mol N-H键断裂,则形成的π键有 mol.
(3)A能与硫酸反应生成B.B的结构与硫酸铵相似,则B的晶体内存在 (填标号) a.离子键 b.共价键 c.配位键 d.范德华力. 查看习题详情和答案>>