摘要:10.光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料.某一光刻胶的主要成分如图所示.下列有关说法正确的是 ( ) A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2 B.1 mol该物质可消耗4molH2 C.该物质可稳定存在于碱性溶液中 D.该物质可经过缩聚反应制得 11.霉酚酸酯(MMF)是器官移植中抑制细胞增殖 最常用的药物.下列关于说法正确的是( ) A.MMF能溶于水 B.MMF能发生取代反应和消去反应 C.1molMMF能与6mol氢气发生加成反应 D.1molMMF能与含3molNaOH的水溶液完全反应
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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是( )

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| A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2 |
| B.1 mol该物质可消耗4molH2 |
| C.该物质可稳定存在于碱性溶液中 |
| D.该物质可经过加聚反应制得 |