三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O===2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关说法正确的是　

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF₃＋5H₂O===2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关说法正确的是　

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5 H₂O  2NO+HNO₃+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF，下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂               B．HF是还原产物

C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2:1        D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O=2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是(   　)

A．NF₃分子中所有原子共平面           B．NF₃在反应中既做氧化剂又做还原剂

C．生成0.2mol HNO₃时转移0.2mol电子  D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1