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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（ ）
已知有机物A是光刻胶剥离液的主要成分之一，用于液晶显示器等，也可制高纯度医药制剂，F的最简式与D的分子式相同，有机物A中相同的官能团处于邻位，不同的官能团处于对位．有机物A～G之问的转化关系如图所示．根据以上信息，回答下列问题：
（1）C中含有的官能团名称为
（2）G的结构简式为
（3）反应①～④中属于取代反应的是
（4）写出反应①的化学方程式：
（5）写出D与新制Cu（OH）2悬浊液反应的化学方程式：
（6）尼泊金丁酯（C11H14O3）与A具有相似的结构，官能团的种类相同但个数均为1．尼泊金丁酯的同分异构体有
所示，下列有关说法正确的是（ ）
+R′CH2COOC2H5
聚乙烯醇肉桂酸酯是最早用于光刻胶的光敏高分子化合物，其合成途径如下：
合成步骤一：
合成步骤二：
合成步骤三：
（聚乙烯醇肉桂酸酯）
(1)写出A的结构简式：_________________。
（2）写出反应（Ⅰ）的化学方程式__________________________________。
（3）反应（Ⅱ）的类型是_________________，反应（Ⅲ）的类型是_________________。
（4）C4H6O2同分异构体甚多，其中属于羧酸的同分异构体的为：_______________________、_____________________、___________________、_______________________。
查看习题详情和答案>>光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）： 
已知：
Ⅰ．
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为 。
（2）羧酸X的电离方程式为 。
（3）C物质可发生的反应类型为 （填字母序号）。
a．加聚反应 b． 酯化反应 c． 还原反应 d．缩聚反应
（4）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、
、 和 。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
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