摘要：工业上可用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯 (一种常用的化妆品防霉剂).其生产过程如下图所示: (1)有机物A的结构简式为 . (2)反应物的化学方程式为: . (3)反应②的类型属 反应.反应④属于 反应. (4)反应③的方程式(反应条件不要写.要配平)为: . (5)在合成路线中.设计第③步反应的目的是: .
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工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（
），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用．其过程如下：
据图填写下列空白：
（1）有机物A的结构简式
，B的结构简式
；
（2）反应④属于
（3）③和⑥的目的是
（4）写出反应⑥的方程式
+HI
+CH3I+HI
+CH3I．
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），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用．其过程如下：据图填写下列空白：
（1）有机物A的结构简式
（2）反应④属于
氧化反应
氧化反应
，反应⑤属于酯化反应
酯化反应
．（3）③和⑥的目的是
保护酚羟基，防止被氧化
保护酚羟基，防止被氧化
；（4）写出反应⑥的方程式
+HI| 一定条件 |
+CH3I+HI| 一定条件 |
+CH3I工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯 
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
（1）反应①的试剂和条件是
a．氯气、光照 b．液溴、催化剂
有机物B的结构简式是
．
（2）反应⑤的化学方程式为：
．
（3）反应④的反应类型是
a．取代反应 b．加成反应 c．消去反应 d．酯化反应 e．氧化反应
（4）上述四种化合物B、C、E、G中：
（5）由C物质制备
时，不可选用的试剂是（选填编号）
a．CH3COONa溶液 b．NaOH溶液 c．NaHCO3溶液 d．Na．
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（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）：根据上述合成路线回答：
（1）反应①的试剂和条件是
B
B
（填编号） a．氯气、光照 b．液溴、催化剂
有机物B的结构简式是
（2）反应⑤的化学方程式为：
（3）反应④的反应类型是
e
e
（填编号），反应⑥的反应类型是a
a
（填编号）．a．取代反应 b．加成反应 c．消去反应 d．酯化反应 e．氧化反应
（4）上述四种化合物B、C、E、G中：
E
E
能与NaHCO3反应（不考虑酯的水解）；C、G
C、G
能与过量浓溴水反应．在一定条件下，等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应，消耗NaOH的物质的量之比为2：1：1：2
2：1：1：2
．（5）由C物质制备
时，不可选用的试剂是（选填编号）a、c
a、c
．a．CH3COONa溶液 b．NaOH溶液 c．NaHCO3溶液 d．Na．
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯
，生产过程如下图：
（1）对羟基苯甲酸乙酯的分子式为??????? ；1mol 该物质与NaOH溶液完全反应，最多消耗___? ___molNaOH。
（2）化合物A中的官能团名称是_________，反应④的反应类型属_____? ___。
（3）反应①的化学方程式________ _______。
（4）在合成线路中，设计第③和⑥这两步反应的目的是__________。
（5）有机物C（分子构型为
，-X、-Y为取代基）是对羟基苯甲酸乙酯的同分异构体且能发生银镜反应，则-X的结构简式可能是????????? 、????????? 。
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），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用。其过程如下：
），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用。其过程如下：